发明名称 |
等离子处理装置及等离子处理方法 |
摘要 |
本发明公开一种实现等离子处理装置的小型化或设置面积的减少的等离子处理装置。干蚀刻装置(1)具备贮存部(13),该贮存部(13)包含收纳有托盘(3)的盒(62),该托盘(3)收容有基板(2)且可搬运。在收容有托盘(3)的搬运机构(15)的搬运部(12)内设置旋转台(33)。使载置有干蚀刻前的托盘(3)的旋转台(33)旋转,通过凹口检测传感器(44)检测凹口(3c),由此进行托盘(3)的旋转角度位置调整。 |
申请公布号 |
CN103140922A |
申请公布日期 |
2013.06.05 |
申请号 |
CN201280003129.7 |
申请日期 |
2012.03.26 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
岩井哲博 |
分类号 |
H01L21/677(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/677(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
一种等离子处理装置,其特征在于,具备:贮存部,其收纳等离子处理的对象物;等离子处理部,其对从所述贮存部搬入的所述对象物执行等离子处理;搬运部,其收容有搬运所述对象物的搬运装置;准备台,其收容于所述搬运部,从所述贮存部向所述等离子处理部搬入之前的所述对象物配置于该准备台;以及预备处理部,其与所述准备台协作而对所述对象物执行所述等离子处理用的预备性处理。 |
地址 |
日本大阪府 |