发明名称 |
光刻设备和器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电,以便产生等离子体,阴极和阳极彼此相对地定位,使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲,以便产生大致径向地压缩仅在阴极或阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力。 |
申请公布号 |
CN101690419B |
申请公布日期 |
2013.06.05 |
申请号 |
CN200880024087.9 |
申请日期 |
2008.07.28 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
V·V·伊万诺夫;V·Y·班尼恩;A·J·布里克;K·N·克什烈夫;P·S·安提斯弗诺夫;V·M·克里夫特逊;D·V·洛帕伊夫 |
分类号 |
H05G2/00(2006.01)I |
主分类号 |
H05G2/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种配置用以产生用于光刻设备的辐射的源,所述源包括:阳极;和阴极,所述阴极和阳极被配置以在所述阳极和所述阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电,以便产生等离子体,所述阴极和阳极彼此相对地定位使得在使用中在所述阳极和所述阴极之间延伸的电流线大致弯曲以便产生大致径向地压缩仅在所述阴极或所述阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力,其中沿大致平行于所述上表面的方向分隔所述阴极和所述阳极的距离L大于沿大致垂直于所述上表面的方向分隔所述阴极和所述阳极的距离l。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |