真空镀膜装置

摘要

本发明提供一种真空镀膜装置，其具有一腔体以及收容在腔体内的轨道、多个料杆以及多对靶材。料杆设置在轨道上，每个料杆能够绕自身中心轴转动且挂设有多个待镀工件。每对靶材分设在轨道内外两侧，所述多对靶材分别用于对多个待镀工件镀膜。所述轨道包括多个弧形轨道部，每两个相邻的弧形轨道部之间为弧形连接且使得轨道呈封闭状。本发明的真空镀膜装置，通过将轨道设置为花朵状，使得轨道的长度加长，从而能够在轨道上放置更多的料杆，增加了每次镀膜的待镀膜工件的数量，提高了镀膜效率。

主权项

一种真空镀膜装置，其具有一腔体以及收容在腔体内的轨道、多个料杆以及多对靶材，料杆设置在轨道上，每个料杆能够绕自身中心轴转动且挂设有多个待镀工件，每对靶材分设在轨道内外两侧，所述多对靶材分别用于对多个待镀工件镀膜，其特征在于，所述轨道包括多个弧形轨道部，每两个相邻的弧形轨道部之间为弧形连接且使得轨道呈封闭状，每对靶材均关于所述轨道对称设置且各对靶材到对应弧形轨道部的弧心的距离均相等。