一种电子产品玻璃面板的制造工艺

摘要

本发明公开了一种电子产品玻璃面板的制造工艺，其包括以下步骤：1)图形化转移，所述图形化转移包括以下步骤：1.1)双面贴感光抗蚀膜；1.2)曝光；1.3)显影；1.4)抗腐蚀性热处理；步骤2)化学蚀刻，所述化学蚀刻包括以下步骤：2.1)高速蚀刻；2.2)最终蚀刻；步骤3)去膜。本发明的电子产品玻璃面板的制造工艺可在不破坏玻璃本身强度的基础上对玻璃进行各种造型制造并保证其精度，且可有效提高生产效率，具有以下有益效果：1)本发明工艺可大幅度减少生产工序；2)大幅度提高生产效率和良率；3)大幅度降低生产成本，提高加工精度；4)提高化学化学钢化强度)和抗弯强度；5)有效保护ITO线路和丝印图案。

主权项

一种电子产品玻璃面板的制造工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤1)图形化转移，所述图形化转移包括以下步骤：步骤1.1)双面贴感光抗蚀膜：用自动或手动贴膜机对玻璃面板双面同时密贴感光抗蚀膜，用热压辊在3～5kg/cm2的压力、1～2m/min线速度和110～120℃的温度下把感光抗蚀膜密贴在玻璃面板表面，贴膜时保证感光抗蚀膜内无任何气泡；步骤1.2)曝光：根据CAD或CAM数据制作曝光用底片，所述底片为胶片菲林或玻璃底片，然后通过双面平行光曝光或激光直接成像；步骤1.3)显影：使用0.8～1.2％v/v浓度的碳酸钠溶液作为显影液，使用喷淋式水平显影机，显影点为45～50％，在玻璃面板的上、下面形成与底片上的图形1∶1对应的保护膜图形；步骤1.4)抗腐蚀性热处理：将玻璃面板置入温度为130～180℃的热风烘箱中烘烤20～30min，或者，在紫外线烤箱中以紫外线能量为1492mj/cm2的状态下照射5～8min，或者在红外线紫外线混合烤箱中照射；步骤2)化学蚀刻，所述化学蚀刻包括以下步骤：步骤2.1)高速蚀刻：在水平喷淋式专用蚀刻机内进行双面高速蚀刻：速度为0～2m/min、温度为30～50℃、氢氟酸浓度为10～35％v/v、硫酸浓度为10～35％v/v；步骤2.2)最终蚀刻：在水平溢流式专用蚀刻机内进行双面最终蚀刻：速度为0～2m/min、温度30～50℃；氢氟酸浓度为5～20％v/v、硫酸浓度为5～20％v/v；步骤3)去膜：使用浓度为1～30％v/v的氢氧化钠溶液或专用剥膜液在水平式剥膜机内剥膜。