发明名称 | 减小背照式图像传感器的暗电流 | ||
摘要 | 本发明提供了一种包括有非划片槽区域和划片槽区域的半导体图像传感器件。该图像传感器件包括设置在非划片槽区域中的第一衬底部分。该第一衬底部分包括掺杂辐射感测区域。该图像传感器件包括设置在划片槽区域中的第二衬底部分。该第二衬底部分具有与第一衬底部分相同的材料组分。本发明还提供了一种制造图像传感器件的方法。该方法包括在衬底中形成多个辐射感测区域。该方法包括通过蚀刻划片槽区域中的衬底而在图像传感器件的划片槽区域中形成开口。在蚀刻之后,部分衬底保留在划片槽区域中。该方法包括利用有机材料填充开口。本发明还提供了一种减小背照式图像传感器的暗电流的器件和方法。 | ||
申请公布号 | CN103137633A | 申请公布日期 | 2013.06.05 |
申请号 | CN201210200355.6 | 申请日期 | 2012.06.14 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 吕受书;黄薰莹;黄信荣;邱俊贸;萧家棋;张永承 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
主权项 | 一种装置,所述装置包括:半导体图像传感器件,具有非划片槽区域和划片槽区域,所述半导体图像传感器件包括:第一衬底部分,设置在所述非划片槽区域中,其中,所述第一衬底部分包括掺杂辐射感测区域;以及第二衬底部分,设置在所述划片槽区域中,其中,所述第二衬底部分具有与所述第一衬底部分相同的材料组分。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |