发明名称 一种具有多种绝缘层隔离的沟槽肖特基半导体装置及其制备方法
摘要 本发明公开了一种具有多种绝缘层隔离的沟槽肖特基半导体装置,通过多种绝缘层结构改变漂移区的电场强度分布,提高了器件的反向电压阻断特性;本发明还提供一种制备方法,可以实现两次光刻工艺实现器件的生产制造。
申请公布号 CN103137710A 申请公布日期 2013.06.05
申请号 CN201110376201.8 申请日期 2011.11.21
申请人 朱江;盛况 发明人 朱江;盛况
分类号 H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L29/872(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种具有多种绝缘层隔离的沟槽肖特基半导体装置,其特征在于:包括:多个沟槽位于第一导电半导体材料表面;沟槽内壁的表面设置有半导体氧化物材料;沟槽内壁底部的半导体氧化物材料表面设置有绝缘材料;沟槽之间第一导电半导体材料上部为肖特基势垒结;沟槽内填充有第二导电半导体材料;半导体装置表面和背部区域覆盖有金属层。
地址 113200 辽宁省新宾满族自治县残疾人联合会