真空蒸镀装置

摘要

本实用新型提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件（12），其配设于真空容器（10）内，用于保持多个基板（14）；旋转构件，其用于使基板保持构件（12）旋转；蒸镀构件（34），其以与基板（14）对置的方式设置；以及能量粒子源（38），其用于对基板（14）照射能量粒子。能量粒子源（38）在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下，安装于在真空容器（10）配设的门（10a）的内壁面。

主权项

一种真空蒸镀装置，其在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，所述真空蒸镀装置的特征在于，该真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件，其配设在所述真空容器内，用于保持多个所述基板；旋转构件，其用于使该基板保持构件旋转；蒸镀构件，其以与所述基板对置的方式设置；以及能量粒子源，其用于对所述基板照射能量粒子，所述能量粒子源在能量粒子诱导部朝向所述基板方向的状态下，安装于在所述真空容器配设的门的内壁面。