校准方法和使用这种校准方法的光刻设备

摘要

本发明公开了一种校准方法和使用这种校准方法的光刻设备。所述校准方法包括：将图案形成装置的图案投影到衬底上；测量投影图案的最终位置；和从测量位置得出台位置的校准，其中，在测量期间，衬底围绕衬底的中心轴线从旋转开始位置朝向至少一个其他旋转位置旋转，并且测量对于衬底的至少两个不同的旋转位置中的每一个的投影图案的位置，其中通过平均对于衬底的不同的旋转位置中的每一个处的投影图案的测量位置，确定在投影期间发生的所述图案的位置中的投影偏差和/或在测量期间发生的所述图案的位置中的测量偏差。

主权项

一种用于校准光刻设备的台的台位置的校准方法，所述方法包括步骤：将图案形成装置的图案投影到衬底的目标位置上；测量衬底上的投影图案的最终位置；和从投影图案的测量位置得出台位置的校准，其中，在测量期间，衬底围绕衬底的中心轴线从旋转开始位置朝向至少一个其他旋转位置旋转，并且测量对于衬底的至少两个不同的旋转位置中的每一个的投影图案的位置，其中所述图案围绕衬底的中心轴线是旋转对称的，和其中通过平均对于衬底的不同的旋转位置中的每一个处的投影图案的测量位置，确定在投影期间发生的所述图案的位置中的投影偏差和/或在测量期间发生的所述图案的位置中的测量偏差；其中，在投影期间，位置测量系统配置成确定图案将要被投影到衬底上的目标位置，其中所述投影偏差与位置测量系统中的偏差相关联。