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发明名称
预防或减少浸入式投影装置之污染的方法及浸入式微影装置
摘要
本发明揭示一种用于预防或减少浸入式投影装置之污染的方法。该装置包括至少一沉浸空间,在该装置投影一辐射束于一基板上时,该沉浸空间系至少部分地由一液体所充填。该方法包括在该装置用以投影该辐射束于一基板上之前先以一清洗液体来清洗该沉浸空间之至少一部分。
申请公布号
TWI397777
申请公布日期
2013.06.01
申请号
TW095142866
申请日期
2006.11.20
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
珍 柯尼理斯 凡 德 赫芬
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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