| 摘要 |
本发明提供一种光罩毛胚，其可藉由提高遮光膜之乾式蚀刻速度，缩短乾式蚀刻时间，可降低光阻膜之膜损耗，可使光阻膜薄膜化而提高解像性、图案精度(CD精度)，且可形成由于乾式蚀刻时间之缩短化而获得之剖面形状良好的遮光膜图案。;本发明系一种光罩毛胚，其系于透光性基板上具有遮光膜，该光罩毛胚系乾式蚀刻处理用光罩毛胚，其对应于如下之光罩制作方法，即，以形成于遮光膜上之遮罩图案作为遮罩，藉由乾式蚀刻处理使遮光膜图案化；上述遮光膜由主要含有铬(Cr)与氮(N)之材料而构成，且由X射线绕射所得之绕射峰实质上系CrN(200)。又，上述遮光膜以铬(Cr)为基准时，于深度方向大致均匀地含有氮(N)。 |
