发明名称 再生溅镀靶材及其制作方法
摘要 本发明系一种再生溅镀靶材的制作方法,其系包括提供一回靶材,其含有一背面、一溅镀蚀面及一周缘,该溅镀蚀面包含至少一溅镀蚀面沟槽;于该回靶材之背面进行机械加工前处理;于该回靶材之溅镀蚀面上及其溅镀蚀面沟槽内、以及回靶材之周缘覆盖与该回靶材之组成成分相同之原料粉末,并进行预压及烧结之处理,以获得该再生溅镀靶材。本发明能控制该再生溅镀靶材内的回靶材比重,使得第一次回靶成分之比重逐渐下降,达到汰旧换新,并保持该再生靶材溅镀之品质。
申请公布号 TWI397600 申请公布日期 2013.06.01
申请号 TW098100315 申请日期 2009.01.07
申请人 光洋应用材料科技股份有限公司 台南市安南区工业三路1号 发明人 王子文;詹智尧;廖浩嘉
分类号 C23C14/34;B22F3/12 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 台南市安南区工业三路1号