| 摘要 |
本发明系关于一种蒸发系统，其包含真空室、用于接纳蒸发材料之坩埚、用于接纳基板之基板托架及用于加热欲沈积于该基板上之蒸发材料的电子束源，其中该电子束源与该坩埚及该基板托架一起配置于该真空室内部，该电子束源系一场发射电子束源，且该蒸发系统进一步包含用于控制由该场发射电子束源发射之电子之方向的控制单元，以使该等所发射之电子得以加热该蒸发材料使其蒸发。;藉由使用场发射电子束源而非先前技术电子束源，可增加该蒸发系统之效率，此乃因就切换时间、电流、动能及方向而言，可能更得以控制由该场发射电子束源发射之该等电子，以使该等所发射之电子得以加热该蒸发材料，使得该蒸发材料以一完全受控制之方式蒸发。 |
