生孔剂、生孔性前驱物及使用其提供具有低介电常数之多孔性有机矽石玻璃膜的方法

摘要

本发明涉及生孔剂，生孔性前驱物以及使用其来提供低介电常数的多孔有机矽石玻璃膜的方法，具体地公开了一种用于制备多孔有机矽石玻璃膜的化学气相沉积方法，包括：在真空室内引入包含至少一种选自有机矽烷和有机矽氧烷的前驱物，和不同于该前驱物的生孔剂的其他反应物，其中该生孔剂为具有非支化结构和等于或小于2的不饱和度的C4～C14环状烃化合物；在真空室中将能量施加到气态反应物以引发气态反应物的反应，由此在基材上沉积初级膜，其中该初级膜含有生孔剂；和从该初级膜中充分除去全部不稳定的有机材料，由此提供具有孔隙和小于2.6的介电常数的多孔膜。