| 摘要 |
本发明提供藉由基板的洗净面上之UV光的增加，以及藉由其增加所引起之臭氧O3浓度及激发状态的氧原子O(1D)浓度和活性氧浓度的增加而从基板的洗净面有效去除有机系、金属系的异物之基板洗净方法以及基板洗净装置。;详言之，本发明提供一种基板之洗净方法，系使用UV光照射之基板之洗净方法，其特征为，于含有进行基板之清洗之侧的面(以下简称洗净面)及其近旁部位之第2空间中形成由在该UV光之照射下会产生臭氧、激发状态之氧原子和活性氧种中之至少1种的气体或液所成之雰围，含有该基板另一侧之面(以下，简称为照射面)之第1空间内，形成由所述UV光之吸收率低之气体所成雰围，使该UV光通过第1空间入射于该基板之照射面，透过基板内照射于洗净面者。 |
