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发明名称
卷取式真空成膜装置
摘要
本发明提供一种不会造成装置之大型化且可防止起因于带电粒子从除电单元漏出而造成基材之热变形的卷取式真空成膜装置。;本发明之卷取式真空成膜(蒸镀)装置10系在冷却用筒辊14与除电单元23之间具备用以捕捉从前述除电单元23往冷却用筒辊14之带电粒子的电荷捕捉体25。藉此,阻止从除电单元23漏出之带电粒子到达冷却用筒辊14,而抑制施加在冷却用筒辊14之与基材密接用的偏压电位之变动,以稳定地保持对基材12之静电力。藉此,由于稳定地保持基材12与冷却用筒辊14之间的密接力,因而防止基材12之热变形。
申请公布号
TWI397604
申请公布日期
2013.06.01
申请号
TW097113897
申请日期
2008.04.17
申请人
爱发科股份有限公司 日本
发明人
横井伸;野村常仁;中塚笃;多田勋
分类号
C23C14/56;G11B5/851
主分类号
C23C14/56
代理机构
代理人
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址
日本
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