金属构件之保护膜构造及利用此保护膜构造之金属构件与利用此保护膜构造之半导体或平面显示器制造装置

摘要

本发明提供一种可进行复数个制程之多功能制造装置系统，以及使用于此种多功能制造装置系统之保护皮膜构造，可抑制：反应合成物堆积在半导体或平面显示器制造装置的处理室内壁等；由于内壁等的腐蚀所造成的金属污染；以及由于释放气体所造成的制程偏移等现象。;在金属材料之表面，具备作为底层的第1皮膜层，其具有由基材直接氧化而形成的，膜厚在1 μ m以下之氧化物皮膜；并形成第2皮膜层，膜厚在200 μ m左右。藉由此等之结构，使第2层保护膜具备抗腐蚀性，可抵抗离子或自由基(Radical)的照射。藉由将分子或离子在第2层保护膜中扩散的方式，可使第1层之皮膜具备保护层的效果，避免其腐蚀基材金属表面。并减少各金属构件，处理室的内表面所产生之金属污染，扩散到基板的现象。从而可以抑制基材与第2层的保护膜介面之腐蚀，而导致第2层保护膜剥落的问题。