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发明名称
降低波前像差之方法及电脑程式产品
摘要
本发明揭示一种用于一微影程序的降低波前像差之方法,因而该降低系基于欲加以列印的选择图案以及用于曝光的选择照明模式。一微影装置之一投影系统的前波像差得到测量并藉由计算该投影系统之光学元件的调整以及将计算的调整应用于该投影系统而加以降低。调整之该计算系基于与如在曝露辐射敏感层期间出现的该投影系统之一光瞳中的辐射强度之一空间分布之强度相关的资讯,并且系限于相对较高辐射通量之投影透镜之光瞳区域中的像差。
申请公布号
TWI397779
申请公布日期
2013.06.01
申请号
TW096122345
申请日期
2007.06.21
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
温 提波 泰尔;佛利克 安德利安 史托菲尔丝;罗伦提斯 卡特利纳斯 乔力斯玛;塔莫 优特狄克;琼斯 威尔莫斯 德 克拉克
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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