发明名称 Apparaus for manufacturing thin film
摘要 <p>본 발명은 분사 노즐을 사용하여 기판에 박막을 형성하는 박막 제조 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 제조 장치는, 챔버; 상기 챔버 내에 마련되고 기판이 놓이는 기판 지지대; 상기 기판 지지대를 가열하는 발열체; 상기 기판 지지대와 대향하도록 형성되는 분사 노즐 지지대; 상기 분사 노즐 지지대 하부에 형성되며 상기 기판 상에 원료액을 분사하는 분사 노즐; 및, 상기 분사 노즐 지지대의 양측과 연결 설치되며 상기 분사 노즐의 하부에 배치되는 메쉬(mesh) 형태의 열선을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101269515(B1) 申请公布日期 2013.05.31
申请号 KR20110093435 申请日期 2011.09.16
申请人 发明人
分类号 H01L31/18;H01L31/042;H01L31/0445 主分类号 H01L31/18
代理机构 代理人
主权项
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