| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas, umfassend die Verfahrensschritte: (A) Bereitstellen eines flüssigen SiO2-Einsatzmaterials (105), welches mehr als 70 Gew.-% des Polyalkylsiloxans D4 aufweist, (B) Verdampfen des flüssigen SiO2-Einsatzmaterials (105) in einen gasförmigen SiO2-Einsatzdampf (107), (C) Umsetzen des SiO2-Einsatzdampfes (107) zu SiO2-Partikeln, (D) Abscheiden der SiO2 Partikel auf einer Ablagerungsfläche (160) unter Bildung eines SiO2-Sootkörpers (200), (E) Verglasen des SiO2-Sootkörpers unter Bildung des synthetischen Quarzglases. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass das Verdampfen des erhitzten SiO2-Einsatzmaterials (105) eine Injektionsphase in eine Expansionskammer (125) umfasst, in der das SiO2-Einsatzmaterial (105) in feine Tröpfchen zerstäubt wird, wobei die Tröpfchen einem mittleren Durchmesser von weniger als 5 mum, vorzugsweise weniger als 2 mum, aufweisen.</p> |
