发明名称 METHOD FOR PRODUCING SYNTHETIC QUARTZ GLASS BY DEPOSITION OF SiO2 SOOT FROM THE VAPOR PHASE ON A SUPPORT
摘要 <p>Ein bekanntes Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas umfasst die Verfahrensschritte: Bereitstellen eines flüssigen SiO2-Einsatzmaterials, das als Hauptkomponente Octamethylcyclotetrasiloxan D4 enthält, Verdampfen des SiO2-Einsatzmaterials in einen Einsatzmaterialdampf, Umsetzen des Einsatzmaterialdampfes zu SiO2-Partikeln, Abscheiden der SiO2-Partikel auf einer Ablagerungsfläche unter Bildung eines porösen SiO2-Sootkörpers, und Verglasen des SiO2-Sootkörpers unter Bildung des synthetischen Quarzglases. Um hiervon ausgehend die Herstellung von großvolumigen, zylinderförmigen Sootkörpern mit Außendurchmessern von mehr als 300 mm mit verbesserter Materialhomogenität zu ermöglichen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das flüssige Einsatzmaterial Zusatzkomponenten enthält, umfassend Hexamethylcyclotrisiloxan D3 und dessen lineares Homolog mit einem Gewichtsanteil mD3, Decamethylcyclohexasiloxan D6 und dessen lineares Homolog mit einem Gewichtsanteil mD6 sowie Tetradekamethylcycloheptasiloxan D7 und/oder Hexadecamethylcyclooctasiloxan D8 und deren lineare Homologe mit einem Gewichtsanteil mD7+, wobei das Gewichtsverhältnis mD3/mD6 in einem Bereich zwischen 0,05 und 90 liegt und der Gewichtsanteil mD7+ mindestens 20 Gew.-ppm beträgt.</p>
申请公布号 WO2013076192(A1) 申请公布日期 2013.05.30
申请号 WO2012EP73340 申请日期 2012.11.22
申请人 HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG;SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. 发明人 FABIAN, HEINZ
分类号 C03B19/14;C03B37/014 主分类号 C03B19/14
代理机构 代理人
主权项
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