| 发明名称 | 成膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明的成膜方法具有：对基板(101)的表面照射具有能量的粒子的第一照射工序；使用干式法在所述第一照射工序后的基板(101)的表面成膜第一膜(103)的第一成膜工序；在第一膜(103)的表面成膜具有防油性的第二膜(105)的第二成膜工序。根据该发明，能够提供可以制造具有防油性膜的防油性基材的成膜方法，其中的防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。 | ||
| 申请公布号 | CN102124136B | 申请公布日期 | 2013.05.29 |
| 申请号 | CN200980100663.8 | 申请日期 | 2009.08.24 |
| 申请人 | 新柯隆株式会社 | 发明人 | 盐野一郎;长江亦周;姜友松;菅原卓哉 |
| 分类号 | C23C14/02(2006.01)I;C03C17/42(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 一种成膜方法，其特征在于，包括：以300～900秒的照射时间对基板的表面照射具有能量的粒子，在所述基板的表面形成凹凸的第一照射工序；通过使用离子束的离子辅助蒸镀法在所述第一照射工序后的所述基板的凹凸面成膜第一膜，将所述基板的凹凸面的形状转印赋予到所述第一膜的表面的第一成膜工序；在所述第一成膜工序后的所述第一膜的凹凸面成膜具有防油性的第二膜的第二成膜工序，所述第一成膜工序使所述第一膜满足下述表面特性，中心线平均粗糙度(Ra)：0.1～1000nm、十点平均高度(Rz)：5～2000nm、最大谷深度(Pv)：15～2000nm，其中，任一数值均是按照JIS‑B0601测定的值。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||