发明名称 快速热处理设备及方法
摘要 本发明公开了一种快速热处理设备,包括工艺腔和承片室,承片室内有载片台,该载片台采用耐高温材料制成。本发明还公开了使用上述设备进行快速热处理的方法,包括步骤:1)将晶圆片从承片室传至工艺腔,进行高温退火处理;2)将晶圆片从工艺腔直接传回承片室,并放置在载片台上;3)在承片室内抽放氮气2~3次;4)打开承片室,取出晶圆片。本发明通过用耐高温材料制作载片台,使经过高温退火处理后的晶圆片能够直接传回承片室,在延长的N2抽放时间内自然降温,从而突破了RTP设备原有的作业方式,减少了每批次产品的RTP作业时间,提高了生产效率。
申请公布号 CN103123905A 申请公布日期 2013.05.29
申请号 CN201110366757.9 申请日期 2011.11.18
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 郑刚;华伟;胡浩
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 刘昌荣
主权项 一种快速热处理设备,包括工艺腔和承片室,承片室内有载片台,其特征在于,所述载片台采用耐高温材料制成。
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号