发明名称 |
半导体制造中的成品管理方法 |
摘要 |
本发明提供一种半导体制造过程中的成品管理方法和其设备。所述方法包括如下步骤。获得并采集晶片的某一层的瑕疵数据,其中所述瑕疵数据包括该层的瑕疵的尺寸和位置。获得关于该层的布局图。根据所述瑕疵数据和布局图,通过多个处理装置并行进行该层的临界区域分析,以估计该层处于临界区域中的瑕疵位置。 |
申请公布号 |
CN101807266B |
申请公布日期 |
2013.05.29 |
申请号 |
CN200910225439.3 |
申请日期 |
2009.12.10 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
吕一云;杨稳儒;吴仁贵;申云勇;张焕永 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I;G06Q10/06(2012.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律师事务所 11306 |
代理人 |
梁永 |
主权项 |
一种半导体制造的成品管理方法,包括如下步骤:采集晶片的层瑕疵数据,其中所述瑕疵数据包括该层的瑕疵尺寸和瑕疵位置;获得该层的布局图;并且根据瑕疵数据和布局图,利用多个处理装置并行对该层临界区域进行分析,以估计在这些瑕疵中处于该层临界区域中的瑕疵的位置;针对所述晶片的其他层执行所述采集瑕疵数据,获得布局图,和进行临界区域分析的步骤;对位于各层临界区域中的瑕疵位置进行整合,以估计所述晶片中坏管芯的位置;排查所述晶片来确定真正的坏管芯位置;并且比较估计出的坏管芯位置和真正的坏管芯位置,以得出相关率。 |
地址 |
中国台湾新竹 |