发明名称 一种两片式双折射晶体或双折射晶体位移补偿机理的隔离器
摘要 本实用新型公开了一种双折射晶体位移补偿机理的隔离器,所述隔离器包括两片晶体和一片法拉第旋光器,法拉第旋光器位于两片晶体的中间,所述的两片晶体的光轴在入射面上投影的夹角度数等于法拉第旋光器的理论旋光角度数或90°与理论旋光角度数之和,且光线至少在一片晶体中以非寻常光模式传输。本实用新型允许通过设计不同的光轴与入射表面夹角,以产生光学设计所需的横向走离量,即降低或增大的光束横向走离量。同时由上述位移补偿机理的自由空间隔离器衍生出一种两片式自由空间隔离器,此方案利用激光器本身偏振选择特性以及双折射晶体o光/e光相对走离特性,同样可以实现隔离目的,此两片式设计可以进一步降低产品成本。
申请公布号 CN202956561U 申请公布日期 2013.05.29
申请号 CN201220363017.X 申请日期 2012.07.26
申请人 陈国强 发明人 陈国强
分类号 G02F1/09(2006.01)I 主分类号 G02F1/09(2006.01)I
代理机构 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人 汤东凤
主权项 一种双折射晶体位移补偿机理的隔离器,包括两片晶体和一片法拉第旋光器,法拉第旋光器位于两片晶体的中间,其特征在于:所述的两片晶体的光轴在入射面上投影的夹角度数等于法拉第旋光器的理论旋光角度数或90°与理论旋光角度数之和,且光线至少在一片晶体中以e光模式传输,所述的隔离器应用双折射晶体中e光相对于o光的横向走离现象,使入射偏振光在晶体中以e光模式传播,在不改变入射角度和元件厚度的情况下,实现改变出射光横向走离量的偏振相关光学设计,包括降低光束横向走离量和增大横向走离量的位移补偿应用。
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