发明名称 SURFACE POSITION DETECTION APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD
摘要 <p>반사면을 통과한 광속에 발생하는 편광 성분에 의한 상대적인 위치 차이 등의 영향을 실질적으로 받는 일 없이, 피검면의 면 위치를 고정밀도로 검출할 수 있는 면 위치 검출 장치. 투사계는 제1 반사면(7b, 7c)을 갖는 투사측 프리즘 부재(7)를 구비하고 있다. 수광계는 투사측 프리즘 부재에 대응하도록 배치된 제2 반사면(8b, 8c)을 갖는 수광측 프리즘 부재(8)를 구비하고 있다. 제1 반사면 및 제2 반사면을 통과한 광속의 편광 성분에 의한 상대적인 위치 차이를 보상하기 위한 위치 차이 보상 부재를 추가로 구비하고 있다.</p>
申请公布号 KR101269298(B1) 申请公布日期 2013.05.29
申请号 KR20077030352 申请日期 2006.06.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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