| 摘要 |
<p>본 발명은 플라즈마 처리 장치에 있어서, 3개 이상 배열된 전극 중 내측 전극의 하단부가 연면 방전에 기인하는 부식성 성분에 의해 부식되는 것을 방지한다. 3개 이상의 판상의 전극 (21)을 배열한다. 각 전극 (21)의 방전 생성면 (27)을 판상의 고체 유전체를 포함하는 유전 부재 (30)으로 덮는다. 전극 (21)의 측부에 설치한 퍼징 노즐 (70)으로부터 퍼징 가스를 분출한다. 퍼징 가스가 내측의 전극 (21B), (21C), (21D)의 하단부면을 따라 흐른다.</p> |
