| 发明名称 | 光反应性聚合物及包括该聚合物的取向层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光反应性聚合物，和包括所述聚合物的取向层，其具有优异的取向速率和取向稳定性。所述光反应性聚合物包括具有至少一个取代的光反应性基团的基于环状烯烃的重复单元，并且在辐照总光剂量为20mJ/cm2或更低的波长为150至450nm的偏振UV光时由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每单位光剂量（mJ/cm2）的二氯比变化的最大绝对值为至少0.003。 | ||
| 申请公布号 | CN103124750A | 申请公布日期 | 2013.05.29 |
| 申请号 | CN201180046564.3 | 申请日期 | 2011.09.26 |
| 申请人 | 株式会社LG化学 | 发明人 | 柳东雨;全成浩;崔大胜 |
| 分类号 | C08F32/08(2006.01)I;C08G61/02(2006.01)I;C08L45/00(2006.01)I;C09K19/56(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | C08F32/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 苏萌;钟守期 |
| 主权项 | 一种光反应性聚合物，其包括具有至少一个光反应性取代基的基于环状烯烃的重复单元，所述光反应性聚合物在总曝光剂量为20mJ/cm2或更低时曝光至波长为150至450nm的偏振UV辐射后由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的最大绝对值至少为0.003。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||