发明名称 |
垂直式热处理炉结构 |
摘要 |
一种垂直式热处理炉结构,包括:一外炉体、一内炉体、一加热机构、一供气机构,及一控制机构,通过控制机构控制进气量可有效使得,内炉体外侧流动空间中第一压力(P1),始终大于内炉体内侧反应空间中第二压力(P2)。通过此设计可使得反应气体流速可加快,增快薄膜反应速率,且提升膜质均匀度,同时也可提升降温速率,增加操作安全性。 |
申请公布号 |
CN103122448A |
申请公布日期 |
2013.05.29 |
申请号 |
CN201110412421.1 |
申请日期 |
2011.12.13 |
申请人 |
核心能源实业有限公司;吉村俊秋 |
发明人 |
萧盈诗;吉村俊秋 |
分类号 |
C23C14/22(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/22(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
一种垂直式热处理炉结构,包括:一外炉体,具有一外壁及一内壁所形成的第一容置空间,并具有一第一侧边及相对该第一侧边的一第二侧边,且于该第一侧边形成该第一容置空间的开口,而该第二侧边为一个封闭面;一个内炉体,是间隔地固设于该外炉体的第一容置空间中,该内炉体有一外侧壁及一内侧壁所形成的第二容置空间,并具有一第三侧边及相对该第三侧边的一第四侧边,部分该第三侧边由一个下封闭面与该第一侧边连接,使得第三侧边形成一个第二容置空间的开口,而该第四侧边为一个封闭面,其中,该内炉体的外侧壁与该外炉体的内壁间形成一个气体流动空间,且于该内炉体的内侧壁中形成一个反应空间;一闸门,具有外表面及内表面,通过该内表面与该第三侧边的该第二容置空间的开口接触后,使得该气体流动空间与该反应空间各自形成独立的空间。 |
地址 |
中国台湾台北市 |