ABRASIVE TOOL WITH FLAT AND CONSISTENT SURFACE TOPOGRAPHY FOR CONDITIONING A CMP PAD AND METHOD FOR MAKING

摘要

CMP 패드를 컨디셔닝하기 위한 편평하고 일관된 표면 형태를 가지는 연마 공구 및 그 제조 방법이 개시된다. 연마 공구는 메탈 본드를 통해 낮은 열팽창계수(CTE) 기재에 결합된 연마 입자를 포함한다. 약 0.1 ㎛/m-℃ 내지 약 5.0 ㎛/m-℃ 범위의 전체 CTE 미스매치가 존재한다. 전체 CTE 미스매치는 연마 입자와 메탈 본드의 CTE 미스매치 및 낮은 CTE 기재와 메탈 본드의 CTE 미스매치 사이의 차이다.