发明名称 ALUMINUM OXIDE PARTICLE AND POLISHING COMPOSITION CONTAINING THE SAME
摘要 <p>본 발명은 6면체 형상을 갖고, 종횡비가 1 - 5인 1차 입자를 갖는 알루미늄 산화물 입자에 관한 것이다. 알루미늄 산화물 입자의 평균 1차 입자의 지름은 0.01 - 0.6 ㎛인 것이 바람직하다. 바람직하게는 알루미늄 산화물 입자는 5 - 70 %의 α전환비율을 갖는다. 더욱이, 알루미늄 산화물 입자의 평균 2차 입자 지름은 0.01 - 2 ㎛인 것이 바람직하고, 알루미늄 산화물 입자의 90% 입자 지름을 알루미늄 산화물 입자의 10% 입자 지름으로 나눈 값이 3 이하인 것이 바람직하다. 알루미늄 산화물 입자는 예를 들어, 반도체 장치 기판, 하드 디스크 기판 또는 디스플레이용 기판을 연마하기 위한 연마용 입자로 사용된다.</p>
申请公布号 KR101268007(B1) 申请公布日期 2013.05.27
申请号 KR20117000735 申请日期 2009.06.12
申请人 发明人
分类号 B24B37/20;C01F7/02;C09K3/14;H01L21/304 主分类号 B24B37/20
代理机构 代理人
主权项
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