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Halbleiter-Gassensor auf der Basis eines integrierten Feldeffekttransistors mit einen Halbleiterkörper mit einer an der Oberfläche des Halbleiterkörpers ausgebildeten Passivierungsschicht, der eine durch einen Spalt von einen Kanalbereich getrennte gassensitive Steuerelektrode aufweist und als Suspended Gate Feldeffekttransistor (SGFET) ausgebildet ist, oder die Steuerelektrode als eine erste Platte eines Kondensators mit Spalt angeordnet ist und eine zweite Platte des Kondensators mit einem Gate des als Capacitve Controlled ausgebildeten Feldeffekttransistors (CCFET) verbunden ist, und die Steuerelektrode eine Halbleiter-Trägerschicht mit einer aufliegenden Haftvermittlerschicht und einer auf der Haftvermittlerschicht aufliegenden gassensitiven Schicht aufweist, und mit einem Referenzpotential verschaltet ist, und die Oberfläche der gassensitiven Schicht dem Kanalbereich oder der zweiten Platte zugewandt ist, und ein Stützgebiet mit einer ersten Tragstruktur mit einem ersten Auflagebereich und einer zweiten Tragstruktur mit einem zweiten Auflagebereich vorgesehen ist, wobei auf der Oberfläche des Halbleiterkörpers ein Anschlussgebiet vorgesehen ist und das Stützgebiet innerhalb des Anschlussgebietes angeordnet ist, und das Anschlussgebiet einen ersten Anschlussbereich und einen zweiten Anschlussbereich aufweist und der erste Anschlussbereich mit der Steuerelektrode mittels eines ersten Verbindungsmittels eine elektrische Verbindung und eine kraftschlüssige Verbindung aufweist und der zweiten Anschlussbereich mit der Steuerelektrode mittels eines zweiten Verbindungsmittels wenigstens eine kraftschlüssige Verbindung aufweist. |
