发明名称 平面磁控ECR-PECVD等离子源装置
摘要 本发明公开了一种平面磁控ECR-PECVD等离子源装置,包括真空腔室、微波谐振腔、微波天线、微波波导以及微波发生器,其中,所述微波谐振腔设置在真空腔室的内部,所述微波天线装配在微波谐振腔内,并轴向贯穿微波谐振腔内,所述真空腔室外侧的两端分别设有微波发生器,所述两个微波发生器分别通过微波波导与微波天线的两端相连接,所述真空腔室与微波谐振腔之间设有平面磁控板,待镀膜样品设置在微波谐振腔和平面磁控板之间;所述微波谐振腔内设有若干气体喷射管。本发明的平面磁控板使用硬磁材料产生平面磁场,起到增强反应气体的电离效率,提高镀膜均匀性的作用,兼具高镀膜速率、高膜层均匀性的优点,适用于各种薄膜的镀制。
申请公布号 CN103114278A 申请公布日期 2013.05.22
申请号 CN201310047937.X 申请日期 2013.02.06
申请人 上海君威新能源装备有限公司 发明人 夏世伟;吴长川
分类号 C23C16/511(2006.01)I 主分类号 C23C16/511(2006.01)I
代理机构 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人 郭国中
主权项 一种平面磁控ECR‑PECVD等离子源装置,其特征在于,包括真空腔室、微波谐振腔、微波天线、微波波导以及微波发生器,其中,所述微波谐振腔设置在真空腔室的内部;所述微波天线装配在微波谐振腔内,并轴向贯穿整个微波谐振腔;所述真空腔室外侧的靠近两端部处分别设有微波发生器,所述两个微波发生器分别通过微波波导与微波天线的两端相连接;所述真空腔室与微波谐振腔之间设有平面磁控板,待镀膜样品设置在微波谐振腔和平面磁控板之间;所述微波谐振腔内还设有若干气体喷射管。
地址 200941 上海市宝山区春和路380号403室