发明名称 |
异质结MWT电池及其制作方法、载片舟 |
摘要 |
本发明提供了一种异质结MWT电池的制作方法,包括提供衬底;采用掩膜片将衬底背面的过孔完全遮挡,在衬底的背面形成背面掺杂层、背面导电层、背面电极层;去除掩膜片,在过孔内填充导电材料,在衬底正面形成正面栅线,在衬底背面形成接触区,正面栅线通过过孔内的导电材料与接触区电性相连,且接触区与背面掺杂层、背面导电层和背面电极层电性绝缘。本发明所提供的制作方法,采用掩膜片将电池正面栅线在背面的接触区完全遮挡,再在衬底背面制作各膜层,实现了背面各膜层的选择性形成,从根本上杜绝了背面接触区与背面各膜层的短路问题,无需额外增加其它步骤,制作工艺简单易实现,相对于现有技术降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN103117329A |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN201310051273.4 |
申请日期 |
2013.02.17 |
申请人 |
英利集团有限公司 |
发明人 |
陈剑辉;李锋;沈燕龙;赵文超;李高非;胡志岩;熊景峰;宋登元 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/072(2012.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
王宝筠 |
主权项 |
一种异质结MWT电池的制作方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底的正面覆盖有正面钝化层,背面覆盖有背面钝化层,且所述衬底具有至少一个贯穿其自身、正面钝化层及背面钝化层的过孔;采用掩膜片将所述衬底背面的过孔完全遮挡,在衬底的背面形成背面掺杂层,在所述背面掺杂层背离衬底一侧的表面上形成背面导电层,在所述背面导电层背离衬底一侧的表面上形成背面电极层;去除所述掩膜片,在所述过孔内填充导电材料,并在衬底正面形成正面栅线,在衬底背面未被背面掺杂层、背面导电层和背面电极层覆盖的区域形成接触区,所述正面栅线通过所述过孔内的导电材料与所述接触区电性相连,且所述接触区与所述背面掺杂层、背面导电层和背面电极层电性绝缘。 |
地址 |
071051 河北省保定市翠园街722号 |