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发明名称 Patterning of doped poly-silicon gates
摘要
申请公布号 EP1916708(B1) 申请公布日期 2013.05.22
申请号 EP20070119098 申请日期 2007.10.23
申请人 IMEC 发明人 DEMAND, MARC;SHAMIRYAN, DENIS;PARASCHIV, VASILE
分类号 H01L21/3213 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人
主权项
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