发明名称 光学薄膜的制造方法、光学薄膜及光学薄膜的制造装置
摘要 本发明提供一种光学薄膜的制造方法,其特征在于,利用刀具切割具有偏振片的光学薄膜坯料来制造光学薄膜,在切割上述光学薄膜坯料时,能够在将该偏振片加热至该偏振片的温度比气氛温度高的状态下进行切割。
申请公布号 CN103119482A 申请公布日期 2013.05.22
申请号 CN201180045379.2 申请日期 2011.10.14
申请人 日东电工株式会社 发明人 仲井宏太;田中悟;须藤定治
分类号 G02B5/30(2006.01)I;B26D7/10(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种光学薄膜的制造方法,该光学薄膜的制造方法利用刀具切割具有偏振片的光学薄膜坯料来制造光学薄膜,其特征在于,切割上述光学薄膜坯料时,在将该偏振片加热至该偏振片的温度比气氛温度高的状态下进行切割。
地址 日本大阪府