发明名称 | 固态成像装置及其制造方法以及电子设备 | ||
摘要 | 本发明提供了固态成像装置及其制造方法以及电子设备。固态成像装置包括:光电检测器,其形成在衬底上,并被配置为通过光电转换来产生信号电荷;浮动扩散部,其被配置为接收由光电检测器产生的信号电荷;多个MOS晶体管,其包括将信号电荷转移到浮动扩散部的转移晶体管和输出与浮动扩散部的电位相对应的像素信号的放大晶体管;多层布线层,其形成在高于衬底的层中,并且包括经由接触部分与MOS晶体管连接的多个布线层;以及遮光膜,其由布置在高于衬底并低于多层布线层的层中的底布线层构成。 | ||
申请公布号 | CN101826537B | 申请公布日期 | 2013.05.22 |
申请号 | CN201010124361.9 | 申请日期 | 2010.02.26 |
申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 田浦忠行 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人 | 宋鹤;南霆 |
主权项 | 一种固态成像装置,包括:光电检测器,其形成在衬底上,并被配置为通过将入射光转换为电来产生信号电荷;浮动扩散部,其被配置为接收由所述光电检测器产生的所述信号电荷;多个MOS(金属氧化物半导体)晶体管,其包括将所述信号电荷转移到所述浮动扩散部的转移晶体管和输出与所述浮动扩散部的电位相对应的像素信号的放大晶体管;多层布线层,其形成在高于所述衬底的层中,并且包括经由接触部分与所述MOS晶体管电连接的多个布线层;以及遮光膜,其由布置在高于所述衬底并低于所述多层布线层的层中的底布线层构成,并且形成在对至少所述浮动扩散部进行遮光的区域中,但所述光电检测器的开口正上方的区域除外,所述遮光膜经由接触部分电连接到所述浮动扩散部,其中,所述遮光膜经由接触部分电连接到所述放大晶体管的栅极电极。 | ||
地址 | 日本东京都 |