发明名称 |
轮廓测量系统的校准 |
摘要 |
一种用于校准测量系统的方法,该系统包括被构成的光源、光学装置和传感器。该光源适合于产生光的平面或片,而该光学装置被定位在该光平面和该传感器之间。该方法被执行以便获得从传感器到光平面的映射。在该方法中,光源被接通,以便使该光平面被产生。为了计及由光学装置产生的畸变,映射校准轮廓被引入该光平面中,其中该映射校准轮廓包括形成直线的至少三个点。其后,通过使用该至少三个点,计算从传感器到光平面的非线性映射。下一步,为了计及投影的畸变,单对应性校准轮廓被引入该光平面中,其中该单对应性校准轮廓包括其间相对距离已被预先确定的至少四个点。然后,根据该四个点计算从传感器到光平面的单对应性。在这种方法中使用的校准物体也被给出。 |
申请公布号 |
CN102132125B |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN200980132731.9 |
申请日期 |
2009.07.02 |
申请人 |
西克IVP股份公司 |
发明人 |
H·特贝尔;R·安德森 |
分类号 |
G01B11/25(2006.01)I;G01B21/04(2006.01)I;G06T7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/25(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
蒋世迅 |
主权项 |
一种用于校准测量系统(10)的方法,该系统(10)包括光源(12)、光学装置(22)和传感器(14),其中所述光源(12)适合于产生光平面(18),而所述光学装置(22)被定位在所述光平面(18)和所述传感器(14)之间,其中所述方法被执行,为的是获得从所述传感器(14)上至少一个点到所述光平面(18)中至少一个点的映射,所述方法包括步骤:‑接通所述光源(12),以便使所述光平面(18)被产生;‑在所述光平面(18)中的第一映射位置中引入映射校准轮廓(28),其中所述映射校准轮廓(28)包括形成直线的至少三个点;特征在于,该方法还包括步骤:‑通过使用所述映射校准轮廓(28)的所述至少三个点,计算从所述传感器(14)的至少第一部分到所述光平面(18)的至少第一部分的非线性映射;‑在所述光平面(18)的第一单对应性位置中引入单对应性校准轮廓(32),其中所述单对应性校准轮廓(32)包括其间相对距离已被预先确定的至少四个点,和‑根据所述单对应性校准轮廓(32)的所述至少四个点,计算从所述传感器(14)的至少第一部分到所述光平面(18)的至少第一部分的单对应性。 |
地址 |
瑞典林雪平 |