SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

摘要

기판에 소수화제가 공급되어, 그 기판의 표면이 소수화된다. 그 후, 기판이 건조된다. 처리 대상의 기판은 소수화되고나서 건조될 때까지 물이 접촉되지 않는 상태로 유지된다. 이에 의해, 기판 표면에 형성된 패턴의 도괴가 억제 또는 방지된다.