一种利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺

摘要

本发明涉及一种镀外缘全封闭带的工艺，主要适用于PVD镀膜技术领域。本发明包括如下步骤：对被镀膜片进行CNC加工，轮廓度控制在0.1，通过SPC控制手段，Cpk＞1.33，过止规检查符合+0.1/-0.15；将被镀膜片进行镀膜清洗；将被镀膜片放入镀膜工装，遮住被镀膜片上的非镀膜部分，使被镀膜片上的镀膜部分裸露在外；将镀膜工装放进磁控溅射镀膜机的镀膜腔体内，镀膜面设置在靶材所在的一侧；按照标准设定镀膜工艺参数；进行镀膜；得到具有外缘全封闭带的镀膜片。本发明可实现镀外缘全封闭带，镀膜精确度高，成膜位置准确，边缘清晰无阴影，成本较低。

主权项

一种利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺，其特征在于：包括如下步骤：a)对被镀膜片进行CNC加工，轮廓度控制在0.1，通过SPC控制手段，Cpk＞1.33，过止规检查符合+0.1/‑0.15；b)将被镀膜片进行镀膜清洗；c)将被镀膜片放入镀膜工装，遮住被镀膜片上的非镀膜部分，使被镀膜片上的镀膜部分裸露在外；d)将镀膜工装放进磁控溅射镀膜机的镀膜腔体内，镀膜面设置在靶材所在的一侧；e)按照标准设定镀膜工艺参数；f)进行镀膜；g)得到具有外缘全封闭带的镀膜片。