改进的超声波清洗的方法和装置

摘要

一种用于处理半导体晶片表面的设备和方法，其提供了一种在比处理流体中引起空化所需的声压小的声压下产生的处理流体中分散的气泡的形式的处理流体。谐振器供应超声波或兆声波能量至该处理流体，并被配置为在该处理流体中产生干涉图案，该干涉图案包括处理流体和半导体晶片的界面处的压强幅度的最大值和最小值的区域。

主权项

一种用于使用流体处理物件的表面的装置，其包括：支托件，其被配置为以预定的方向定位物件；超声波或兆声波能量的源，其被定位以振动邻近所述物件的流体介质；以及处理流体的发生器，其配置为在降低处理流体的压强之后邻近所述超声波或兆声波能量的源排放所述处理流体，以便先前溶解在液体中的气体以气泡的形式从溶液中释放出；其中，所述超声波或兆声波能量的源被配置为在所述处理流体中产生干涉图案，所述干涉图案包括在所述处理流体和所述物件的界面的压强幅度的最大值和最小值的区域。