发明名称 |
在接合工艺中实施回流的方法 |
摘要 |
一种在接合工艺中实施回流的方法包括:将覆盖件置于下部封装元件的上方,其中,覆盖件包括与下部封装元件对准的开口。将上部封装元件置于下部封装元件的上方。上部封装元件与开口对准,在上部封装元件和下部封装元件之间设置焊料区域。将覆盖件和上部封装元件暴露在辐射中,以回流焊料区域。本发明还公开了在接合工艺中实施回流的方法。 |
申请公布号 |
CN103111698A |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN201210074975.X |
申请日期 |
2012.03.20 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
林修任;林志伟;陈正庭;郑明达;刘重希 |
分类号 |
B23K1/005(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I |
主分类号 |
B23K1/005(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律师事务所 11306 |
代理人 |
陆鑫;房岭梅 |
主权项 |
一种方法,包括:将覆盖件置于下部封装元件的上方,其中,所述覆盖件包括与所述下部封装元件对准的开口;将上部封装元件置于所述下部封装元件的上方,其中,所述上部封装元件与所述开口对准,以及其中,将焊料区域设置在所述上部封装元件和所述下部封装元件之间;以及将所述覆盖件和所述上部封装元件暴露在辐射中,以回流所述焊料区域。 |
地址 |
中国台湾新竹 |