发明名称 一种应用于交织SRAM抗软错误累积效应的擦洗方法
摘要 本发明公开了一种应用于交织SRAM抗软错误累积效应的擦洗方法,包含:所述交织SRAM的交织距离为m个存储单元,所述存储单元即bit;以连续n个存储单元为一擦洗单位,将所述交织SRAM顺序划分成若干个擦洗单位,并将位于奇数位的擦洗单位设为第一擦洗部分,余下的设为擦洗第二部分;依次循环对所述第一部擦洗分和第二擦洗部分进行擦洗;利用位于所述交织SRAM外围的SEC电路对每个字节内的单个错位进行纠正;使每个字节相邻的两个存储单元在前后两轮擦洗中。本发明提供的擦洗方法,解决了现有的擦洗方法存在的擦洗效率低、没有有效利用SEC电路的问题。
申请公布号 CN103117093A 申请公布日期 2013.05.22
申请号 CN201210559913.8 申请日期 2012.12.20
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 刘鑫;赵发展;韩郑生
分类号 G11C29/08(2006.01)I 主分类号 G11C29/08(2006.01)I
代理机构 北京市德权律师事务所 11302 代理人 刘丽君
主权项 一种应用于交织SRAM抗软错误累积效应的擦洗方法,包含:所述交织SRAM的交织距离为m个存储单元,所述存储单元即bit;以连续n个存储单元为一擦洗单位,将所述交织SRAM顺序划分成若干个擦洗单位,并将位于奇数位的擦洗单位设为第一擦洗部分,余下的设为擦洗第二部分;依次循环对所述第一部擦洗分和第二擦洗部分进行擦洗;利用位于所述交织SRAM外围的SEC电路对每个字节内的单个错位进行纠正;其特征在于,所述擦洗方法还包含:使每个字节相邻的两个存储单元在前后两轮擦洗中。
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
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