发明名称 | 一种原子层沉积设备 | ||
摘要 | 本发明公开了一种原子层沉积的设备,其是由盖板和主体腔室构成的可开闭的封闭腔室;所述盖板内表面设置有气路单元,所述气路单元包括多个气流通道,所述多个气流通道通过间隔层相间隔,且每个所述气流通道与盖板的外表面上设置的多个气孔相连通;所述主体腔室包括可旋转承载盘和传动系统,所述传动系统带动所述可旋转承载盘进行旋转,所述可旋转承载盘上设置有放置晶片的凹槽;其中,所述多个气流通道至少包括第一气流通道和第二气流通道,所述第一气流通道用于通入反应源气体,所述第二气流通道用于将未发生反应的反应源气体抽出。该设备能够提高原子层外延的速度,节省单项工艺时间。通过提高承载盘的转速,可以提高原子层外延的生长速率。 | ||
申请公布号 | CN103114277A | 申请公布日期 | 2013.05.22 |
申请号 | CN201310072067.1 | 申请日期 | 2013.03.07 |
申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 赵万顺;张峰;王雷;曾一平 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 宋焰琴 |
主权项 | 一种原子层沉积设备,其是由盖板和主体腔室构成的可开闭的封闭腔室;所述盖板内表面设置有气路单元,所述气路单元至少包括第一气流通道和第二气流通道,且所述第一气流通道和第二气流通道通过间隔层相间隔,且每个所述气流通道均有气孔与外部相连;所述主体腔室包括可旋转承载盘和传动系统,所述传动系统带动所述可旋转承载盘进行旋转,所述可旋转承载盘上设置有放置晶片的凹槽。 | ||
地址 | 100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |