发明名称 基板处理装置和基板搬送方法
摘要 本发明提供一种能够利用搬送装置高精度地将基板搬送到处理腔室内的规定位置的基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理装置包括:容纳基板载置台并对其基板载置台上的基板实施规定处理的处理腔室、检测处理腔室的温度的温度传感器、和相对处理腔室内的所述基板载置台进行基板的接收传递的搬送装置。其中,搬送装置具有控制基板的搬送的搬送控制部,搬送控制部根据与温度传感器检测出的温度对应的处理腔室的变位,在规定时间校正搬送装置本体的处理腔室内的基准位置,并以校正过的基准位置为基准控制所述搬送装置本体的基板的搬送。
申请公布号 CN101202211B 申请公布日期 2013.05.22
申请号 CN200710167053.2 申请日期 2007.10.31
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 天野健次;冈部星儿
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;G05B19/04(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种基板处理装置,其特征在于,包括:容纳基板载置台并对其基板载置台上的基板实施规定处理的处理腔室;检测所述处理腔室的温度的温度传感器;和相对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的接收传递的搬送装置,其中所述搬送装置包括搬送装置本体和控制所述搬送装置本体的驱动并控制基板的搬送的搬送控制部,所述搬送控制部,根据与所述温度传感器检测的温度对应的所述处理腔室的变位,在规定时间校正所述搬送装置本体的所述处理腔室内的基准位置,以校正过的基准位置为基准控制所述搬送装置本体的基板的搬送,所述搬送控制部包括:存储部,其存储有预先求出的基准位置信息、和所述处理腔室的温度与变位之间的关系;和运算部,其根据所述温度传感器检测的温度、所述预先求出的基准位置信息、和所述关系来校正基准位置。
地址 日本东京都