发明名称 真空控制系统及真空控制方法
摘要 [课题]提供一种控制真空容器之内部中之气体流动的技术。;[解决手段]本发明提供一种真空控制系统,其系从气体供给部接收处理气之供给,并使用真空泵控制对处理对象执行处理的真空容器中之处理气的真空压力与流动者。真空控制系统具备:各真空控制阀,系连接在复数气体排出口的各个气体排出口与真空泵之间者;前述复数气体排出口的各个气体排出口在真空容器中系配置在相互不同的位置;压力测量部,系测量供给至处理对象的处理气之真空压力者;及控制装置,系依照所测量的真空压力,操作复数真空控制阀的各个真空控制阀之开度者。
申请公布号 TWI396770 申请公布日期 2013.05.21
申请号 TW100100793 申请日期 2011.01.10
申请人 CKD股份有限公司 日本 发明人 板藤宽;纐缬雅之
分类号 C23C16/54 主分类号 C23C16/54
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 日本