| 摘要 |
于第1步骤，形成主开口部5及辅助开口部6组成的遮;光性膜图案2a，接着，藉由于第2步骤，进行透明基板的;雕入蚀刻(基板雕入部8的形成)，可于第1步骤同时曝光;主开口部及辅助开口部，使得两者的位置对准精度均良;好。又，因为使用蚀刻光罩层3a进行遮光性膜2的图案加;工，因此遮光性膜的加工精度良好。又，因为在最终步骤;的第3步骤进行该蚀刻光罩层3a的除去，因此在第2步骤;之透明基板的雕入蚀刻时，蚀刻光罩层3a可保护遮光性膜;图案2a，在透明基板的雕入蚀刻时，可防止遮光性膜图案;2a受到打击。亦即，在透明基板的雕入蚀刻时，受到打击;的是蚀刻光罩层3a，该蚀刻光罩层3a系藉由第3步骤所除;去，因此并无问题。 |
