发明名称 |
氮化镓系磊晶晶圆、及氮化镓系半导体发光元件之制作方法 |
摘要 |
原料气体于有机金属气相成长炉21之流道23中流动。将原料气体于自基座25之主面25a之一端横越另一端之方向供给。于基座主面25a上配置有GaN基板27a~27c。倾斜角于自氮化镓基板27a~27c之主面边缘上之一点朝向该边缘上之另一点的线段上单调地变化。各GaN基板27a~27c之定向由定向平面之方向表示。以该定向将复数个氮化镓基板27a~27c配置于有机金属气相成长炉21之基座25上,藉此可利用上述原料气体流所产生之影响来缩小倾斜角分布之影响。 |
申请公布号 |
TWI396781 |
申请公布日期 |
2013.05.21 |
申请号 |
TW097107374 |
申请日期 |
2008.03.03 |
申请人 |
住友电气工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
善积佑介;上野昌纪;中村孝夫 |
分类号 |
C30B29/38;H01L21/20;H01L33/00 |
主分类号 |
C30B29/38 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |