发明名称 氮化镓系磊晶晶圆、及氮化镓系半导体发光元件之制作方法
摘要 原料气体于有机金属气相成长炉21之流道23中流动。将原料气体于自基座25之主面25a之一端横越另一端之方向供给。于基座主面25a上配置有GaN基板27a~27c。倾斜角于自氮化镓基板27a~27c之主面边缘上之一点朝向该边缘上之另一点的线段上单调地变化。各GaN基板27a~27c之定向由定向平面之方向表示。以该定向将复数个氮化镓基板27a~27c配置于有机金属气相成长炉21之基座25上,藉此可利用上述原料气体流所产生之影响来缩小倾斜角分布之影响。
申请公布号 TWI396781 申请公布日期 2013.05.21
申请号 TW097107374 申请日期 2008.03.03
申请人 住友电气工业股份有限公司 日本 发明人 善积佑介;上野昌纪;中村孝夫
分类号 C30B29/38;H01L21/20;H01L33/00 主分类号 C30B29/38
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本