发明名称 КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ, СОДЕРЖАЩАЯ ПОДАВЛЯЮЩИЙ АГЕНТ, ДЛЯ БЕСПУСТОТНОГО ЗАПОЛНЕНИЯ СУБМИКРОННЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ПОВЕРХНОСТИ
摘要 1. Композиция, содержащая источник металлических ионов и по меньшей мере один подавляющий агент, который получают путем реакции:a) аминного соединения, содержащего активные функциональные аминогруппы,соb) смесью этиленоксида и по меньшей мере одного соединения, выбранного из С3 и С4 алкиленоксидов,где указанный подавляющий агент имеет молекулярную массу (M) 6000 г/моль или более, и где содержание этиленоксида в сополимере этиленоксида и С3-С4 алкиленоксида составляет от 30 до 70%.2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет от 7000 до 19000 г/моль.3. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет от 9000 до 18000 г/моль.4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что металлические ионы содержат ионы меди.5. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что аминное соединение, содержащие активные функциональные аминогруппы, содержит по меньшей мере 3 активные аминогруппы.6. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что подавляющий агент выбирается из соединений формулы I:где- каждый радикал Rнезависимо выбирается из сополимера этиленоксида и по меньшей мере еще одного С3-С4 алкиленоксида, причем указанный сополимер представляет собой случайный сополимер,- каждый радикал Rнезависимо выбирается из Rили алкила, предпочтительно С1-С6 алкила,- Х и Y независимо представляют собой спейсерные группы, причем Х имеет независимые значения для каждой повторяющейся единицы, выбранные из С1-С6 алкилена и Z-(O-Z)m, где каждый радикал Z независимо выбирается из С2-С6 алкилена,- n представляет собой целое число больше или равное 0,- m представляет собой целое число больше или равное 1.7. Ком
申请公布号 RU2011144618(A) 申请公布日期 2013.05.20
申请号 RU20110144618 申请日期 2010.03.29
申请人 БАСФ СЕ 发明人 РЕГЕР-ГЕПФЕРТ Корнелиа;РЭТЕР Роман Бенедикт;ЭМНЕТ Шарлотте;ХААГ Александра;МАЙЕР Дитер
分类号 C25D3/38 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人
主权项
地址