Apparatus for rapid thermal processing with double chambers
摘要
<p>본 발명은 급속 열처리 장치에 사용되는 서셉터에 관한 것이다. 상기 서셉터는 상부 표면에 시편을 배치하기 위한 제1 배치대; 상기 제1 배치대의 상부 표면으로부터 일정 거리 이격된 위치에 고정 장착되고 시료를 배치하는 제2 배치대;를 구비하고, 상기 제2 배치대는 상부 표면과 하부 표면을 관통하는 다수 개의 관통구들 및 상기 제2 배치대의 상부 표면에 시료를 배치하기 위한 다수 개의 투입홈들이 균일하게 형성된다.</p>
