发明名称 ADJUSTING DEVICE OF POLARIZATION AZIMUTHAL ANGLE AND LASER PROCESSING DEVICE
摘要 <p>피가공물로의 안정된 레이저 가공을 용이하게 실시할 수 있는 편광 방위각 조정 장치를 얻는 것이다. 입사해 오는 레이저 광(2)의 P파 편광 성분(P1)을 투과시킴과 아울러, 레이저 광(2)의 S파 편광 성분(S1)을 반사하는 편광자(14)와, 편광자(14)에서 반사된 레이저 광의 S파 편광 성분(S1)을 반사하여 광로의 하류측으로 안내하는 반사 미러(15, 15)를 가지며, 아울러 P파 편광 성분 (P1)를 흡수하고 또한 S파 편광 성분(S1)을 광로의 하류측으로 출사하는 광학 유닛을 구비하며, 광학 유닛은 광학 유닛으로의 레이저 광의 입사광축과 광학 유닛으로부터의 레이저 광의 출사광축이 동축(同軸)이며 또한 광학 유닛을 입사광축을 중심으로하여 회전시켰을 경우에 입사광축 및 출사광축의 광축 방향이 유지되도록, 편광자(14)와 반사 미러(15, 15)가 배치되어 있다.</p>
申请公布号 KR101265843(B1) 申请公布日期 2013.05.20
申请号 KR20110049164 申请日期 2011.05.24
申请人 发明人
分类号 B23K26/067;G02B27/28;H01S3/10 主分类号 B23K26/067
代理机构 代理人
主权项
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